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东兆长泰投资集团有限公司:半导体板块下周有望大涨吗?

更新时间: 2021-08-25 22:47 作者: 58创业 点击次数: 
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所属行业: 火锅

品牌源地: 江苏省

公司名称: 

半导体板块东兆长泰投资集团有限公司,下周有希望反弹,但持续大涨的概率不大。我们可以从板块指数,以及中环股份、三安光电、兆易创新、韦尔股份,这几只半导体中的代表个股本周的走势来分析。

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半导体

东兆长泰投资集团有限公司:半导体板块下周有望大涨吗?

从半导体指数上来看东兆长泰投资集团有限公司,目前半导体周线上已经由之前的上升转为横盘阶段。而截至本周收盘,价格已经回到了横盘的下边界附近。

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这个位置是2020年7月半导体大涨K线的起涨点东兆长泰投资集团有限公司,之后,这个位置又经过了2020年9月和10月的试探,都守住了。

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目前价格又回到了这个前期的支撑区域附近,因此,下周反弹的概率还是比较大的。

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但是也可以看到,虽然下方有支撑,但上方的阻力区域,也是比较大的。

可以看到上方黄线的阻力区域也是经过了多次受阻回落,因此要想大涨突破这一阻力区域的可能性还是比较小的。

再看半导体中最近涨得比较好的中环股份,

中环股份

中环股份,算是半导体板块中,走势较强的代表股之一了。

中环股份,目前周线依然保持着明确的上升趋势。同时也是刚刚回踩了上升趋势线,放量上涨,所以下周有望延续强势。

三安光电

三安光电,目前周线走势和半导体板块走势类似,也是下有支撑上有阻力,在经过本周的杀跌后,价格已经回到了前期横盘支撑位附近,下周是有望反弹的。

兆易创新

兆易创新,这个位置比较尴尬,严格来说,它已经跌破了周线盘整的下边界。但这个位置仍然处于下边界的支撑位附近,所以也不排除后续会不破不立,再次站回到前期的盘整区域内部。

韦尔股份

韦尔股份,是半导体板块中的第一大市值个股,目前韦尔股份,依然处于上升趋势中,本周又形成了一个星线,回到上涨的30周均线附近,这个位置也是有反弹机会。

综上,半导体板块指数,目前已经运行到前期的横盘下边界支撑位;而半导体板块中的几只代表个股,目前也处在其各自的支撑位附近,因此下周半导体板块反弹的概率比较大。但因为上方的支撑区域的存在,以及目前大盘形势并不明朗,所以,持续大涨的可能性较小。

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ASML光刻机到了,听说这个东西很贵是吗?

ASML2018年营收109亿欧元,净利润26亿欧元。英特尔2018年营收708亿美元,净利润211亿美元。2018财年,苹果营收2655.95亿美元,净利润595.31亿美元。

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光刻机是迄今为止人类所能制造的最精密的设备,涉及电子,机械,光学,等等很多领域,被称为是工业的明珠。ASML的光刻机也是很多企业合作的结果,光源是美国的,镜头是德国的,还有英国的技术,荷兰的技术,是西方百年工业的结晶,集大成者。需要各类基础领域扎实的人才,这也是最难的。

目前全球光刻机厂商有4家,分别是ASML、Nikon、Canon和上海微电子(SMEE)。2017年全球光刻机总出货294台,其中ASML共就出货198台(其中EUV光刻机11台),占全球68%的市场份额。EUV光刻机方面,ASML占有率100%。2017年单台EUV机台平均售价超过1亿欧元,2018年一季度的售价更是接近1.2亿欧元(有价无货)。

ASML是荷兰飞利浦旗下的公司,是世界半导体设备的龙头。ASML(阿斯麦)在当今高端沉浸式光刻机中占据80%的份额阿斯麦的总部位于荷兰,于1984年成立,原名Advanced Semiconductor Material Lithography Holding N.V.。

公司拥有员工约16500人,其中研发人员超过6000人,研发人员占比超过36%。

飞利浦又是台积电的股东,而且据说是最大的一个,听说占了台积电一半以上股份,还有别的一些欧美公司也占了不少,总体来说,台积电80%是外资。

1986年推出首台步进式设备PAS2500/10,并和镜头制造商Carl Zeiss建立密切合作关系;1987年,张忠谋创立了台积电,这是改变产业界的大事。在同一年,一位不太起眼的IBM芯片Foundry工程师林本坚从显微镜镜头上的水得到灵感,提出了一种浸润式光刻机的新设想,写成论文发表出来。

ASML成立之初也面临着技术落后和资金短缺的问题。有消息称,1992年在遭遇半导体产业周期性衰退时,公司资金链断裂,几乎破产会闭。幸亏股东飞利浦及时出手相救,加上公司的轻资产战略,才涉险过关。

1995年阿斯麦在NASDAQ和阿姆斯特丹交易所上市。

2001年更名为ASML。

从2004年开始立项,ASML主导,台积电提供协助,2007年,颠覆性的产品——浸润式光刻机诞生了,从此,光刻机从三足鼎立变成了一家独大。

2007年,台积电使用ASML的浸润式光刻机成功投产45nm制程芯片。在光学镜头与硅晶圆片导入液体作为介质,在原有光源与镜头的条件下,能显著提升蚀刻精度,成为目前高端光刻的主流技术方案,一举垄断市场。

2012年公司提出“客户联合投资专案”(Customer Co-Investment Program),获得英特尔、台积电、三星的响应,以23%的股权共筹得53亿欧元2016年11月5日收购Carl Zeiss SMT的24.9%股权,以强化双方在半导体微影技术方面的合作,发展下一代EUV微影系统。

阿斯麦的主要业务是光刻机,在光刻机领域处于绝对领先的地位。在45纳米以下制程的高端光刻机市场中,占据80%以上的市场份额,而在EUV光刻机领域,目前处于绝对垄断地位,市占率为100%,处于独家供货的状态。公司的光刻设备,主要是TWINSCAN产品,按低端至高端又分为 XT、 NXT以及 NXE几个子系列。 XT系列是成熟的机型,具有干式和浸没式两种; NXT系列全部为浸没式,是主推的高端机型,以ArF和KrF激光光源,量产加工产量每小时可达 250片,为目前行业中高端主流设备。 XT与 NXT系列使用的是深紫外光(DUV, Deep Ultra Violet),而 NXE系列使用最先进的极紫外光(EUV, Extreme Ultra Violet)。由于目前在 EUV领域,其他厂商仍处于研发或试用阶段,距离量产还有数年差距, NXE系列垄断 10nm以下的市场,可望帮助公司维持营收盈利的高增速。

阿斯麦的主要客户为全球一线的晶圆厂,除了英特尔、三星和台积电这三大巨头之外,国内的中芯国际也是阿斯麦的客户。

最近几年,阿斯麦的营收呈增长态势。2012至2016年,半导体行业发展缓慢,公司的营收增速也有所放缓,增速大概在10%左右。2016年营收67亿欧元,增长8.1%,净利润15亿欧元,增长5.5%。2017年半导体行业还是景气,公司业绩开始增速;2017年前三季,公司营收65亿欧元,同比增长32%,净利润15亿欧元,同比增长56%。预计2017年的营收可以增长25%左右。

芯片巨头ASML将收购一美国企业

2012年10月18日

全球芯片制造业龙头企业ASML公司将以19.5亿欧元的价格,收购美国Cymer公司,从而获得后者掌握的核心技术,生产更小巧、更智能的芯片。这家荷兰芯片巨头称,这笔现金价股份的兼并交易将加快远紫外(EUV)半导体印刷的研发步伐,利用这种技术制造出来的芯片,将促进新一代智能手机和平板电脑产品的生产。ASML正在升级用于生产新一代芯片的设备。7月份,该公司将23%的股份卖给了英特尔、三星电子和台湾半导体股份有限公司,为新设备的技术研发提供资金。但受在光技术领域的限制,研发始终进行得十分缓慢。而本次交易的收购对象Cymer掌握着核心光技术。ASML首席财务官皮特·温尼克说:“我们相信两家公司的合并将加快远紫外源的开发。”ASML收购Cymer交易的股份与现金比例为3比1。ASML给Cymber股东们开出的价格是每股Cymer公司兑20美元,外加1.1502股ASML股票。以此计算,ASML对Cymber开出的价钱比后者近期股价溢价61%。ASML公司发言人称,公司将从30亿欧元的可用储备资金中拿出6.3亿美元,支付给Cymer,并通过发行新股的方式支付余下的款项。

EUV:半导体业的终极武器光刻机的王者

这全靠总部后头那栋最高机密的巨型厂房,里头身穿无尘衣的员工正在组装,如同货柜车般大的EUV微影系统3350B之赐。这是令全球半导体业引颈期待的终极武器。

台积电、英特尔都寄望,这台史上最昂贵的工具机,会在2017年开始试产的七奈米制程大发神威,成为主力机种。

全球每年生产上百亿片的手机晶片、记忆体,数十年来都仰赖程序繁琐,但原理与冲洗照片类似的曝光显影制程生产。

光刻(lithography)设备是一种投影曝光系统,由紫外光源、光学镜片、对准系统等部件组装而成。在半导体制作过程中,光刻设备会投射光束,穿过印着图案的掩模及光学镜片,将线路图曝光在带有光感涂层的硅晶圆上;通过蚀刻曝光或未受曝光的部份来形成沟槽,然后再进行沉积、蚀刻、掺杂,架构出不同材质的线路;此制程被一再重复,就能将数以十亿计的 MOSFET或其他晶体管,建构在硅晶圆上,形成一般所称的集成电路。

集成电路里的晶体管是通过光刻工艺在晶圆上做出来的,光刻工艺决定了半导体线路的线宽,同时也决定了芯片的性能和功耗。光刻机是半导体行业的最关键设备,因为它决定了光刻工艺的水平。工欲善其事,必先利其器,要想开发先进的半导体制程,就必需要有先进的光刻机。

其中以投射出电路图案的微影机台最关键、也最昂贵。过去十多年,全球最先进的微影机,都采用波长一九三奈米的深紫外光,然而英特尔、台积电量产的最先进电晶体,大小已细小到仅有数十个奈米。这形同用同一支笔,要写的字却愈来愈小,最后笔尖比要写的字还粗的窘境。

要接替的超细字笔,技术源自美国雷根时代星战计划,波长仅有十三奈米的EUV;依照该技术的主要推动者英特尔规划,2005年就该上阵,量产时程却一延再延。

因为这个技术实在太难了。EUV光线的能量、破坏性极高,制程的所有零件、材料,样样挑战人类工艺的极限。例如,因为空气分子会干扰EUV光线,生产过程得在真空环境。而且,机械的动作得精确到误差仅以皮秒(兆分之一秒)计。

最关键零件之一,由德国蔡司生产的反射镜得做到史无前例的完美无瑕,瑕疵大小仅能以皮米(奈米的千分之一)计。如果反射镜面积有整个德国大,最高的突起处不能高于一公分高。

阿斯麦的光刻机按照使用的光源不同,可以分为DUV光刻机和EUV光刻机。

DUV是DeepUltra Violet,即深紫外光;

EUV是Extreme Ultra Violet,即极紫外光。

DUV光刻机的极限工艺节点是28nm,要想开发更先进的制程,就只能使用EUV光刻机了。最先进的是波长13nm的极紫外光刻机(EUV)。

从2012年开始,光刻机技术没有发生革命性变化,著名的摩尔定律开始失效,半导体行业发展缓慢,2015年甚至出现了2.3%的负增长。半导体行业迫切需要使用EUV来提高光刻能力。

2013年阿斯麦的EUV光刻机研发成功,使用的光源是22nm;2017年更先进的EUV光刻机研成功,使用的光源是13nm,使得7nm线宽的制程可以实现。

要想开发10纳米以下的制程,EUV光刻机是必须的设备,而全球只有阿斯麦一家有EUV光刻机。为了能够顺利买到EUV光刻机,半导体行业三大巨头英特尔、三星和台积电都已经入股了阿斯麦。三星计划2018年开始使用阿斯麦的EUV设备,台积电计划2019开始使用阿斯麦的EUV设备,格罗方德计划2019年使用EUV,英特尔计划2021开始使用7nm工艺。

英特尔,三星,台积电,虽然这三家不生产光刻机,但却是ASML的股东之一,以购买股票以及投资ASML科研的方式,成为ASML高端设备的优先供货对象。

目前,阿斯麦的EUV光刻机已经开始出货,2017年预计出货12台,2018年预计出货24台,到2019年预计出货30台。

ASML研发经费倍增到现在的每年十三亿欧元的规模。多出的一倍,ASML自己出一半,三大半导体巨头合出另一半。

能够让顾客帮你买单,制造做到最厉害就是这样了。

梁孟松的博士生导师名叫胡正明,是FinFET技术的发明人, FinFET技术是芯片制程推进到20nm以下的关键。

订货周期21个月,有5万个零部件,关键是买回来其他配套技术要一起达标才能做出10nm 7nm的工艺。

全球最大的芯片机器制造商、荷兰的阿斯麦(AMSL)证实,中国向荷兰订购一台最新型的使用EUV(极紫外线)技术的芯片制造机器光刻机,订货单位是中国厂商 SMIC。这台机器价值1.2亿美元,与其去年净利润1.264亿美元大致相当。消息来源称,这一设备预计将于2019年年初交付。

ASML EUV曝光机的出货量:2017年上半年,ASML售出 2台 EUV设备, Q3单季度倍增到 4台;预计 Q4还有 6台交付,带来 3亿欧元单季收入,计划 2018与 19年均可出售超过 20台。

我们每年要花上千亿美刀来从国外进口半导体芯片,并且最近这几年的半导体进口额已经达到了2000美元以上,近10年里花了1万多亿美元用来进口国外的芯片公司分为两类,一类是普通的公司,一类是伟大的公司。普通的公司被行业影响,被动适应行业的发展;伟大的公司影响行业,主动推动行业的发展。

半导体三大巨头英特尔、三星和台积电要想开发10纳米以下的半导体制程,都只能使用阿斯麦的EUV光刻机。不管三大巨头之间怎么竞争,阿斯麦都可以稳坐钓鱼台。

从公司 2018 年的上半年的销售收入的市场分布看,中国大陆地区的总金额和占比稳步增长,显示出中国市场已经成为全球产业转移的重要方向。

长江存储从荷兰阿斯麦(ASML)公司订购的一台光刻机已抵达武汉。这台光刻机价值高达7200万美元,约合人民币4.6亿元2017年光学光刻工具的出货量也大幅增长。该公司表示,光刻系统出货量比2016年增长了21%,达到了161个。

ASML预计2018年第一季度销售额约为22亿欧元(约合27亿美元)。

阿斯麦的革命性产品

ASML在把控核心技术(光刻曝光技术)的同时,依靠全球产业链分工合作的方式,ASML采取模块化外包协同联合开发策略。该策略使ASML得以集世界光刻顶级技术之大成。如光学镜头部件由德国Carl Zeiss生产,光源由美国的Cymer(现ASML子公司)提供,计量设备则由美国的Keysight(Agilent/Hewlett-Packard)制造,传送带则来自荷兰VDL集团。正是有了如此多的各细分领域中的顶尖供应商的协同创新,公司可以把主要的研发力量集中在确定客户需求和系统整合上,从而迅速占领了世界光刻机的制高点。这一招确实妙,是ASML成功的关键因素之一。阿斯麦的研发人员占比将近 4成,并累计 1万个以上专利。相较于尼康及佳能内部研发多数部件与技术的模式,阿斯麦推行部件外包与技术合作开发策略,专注于核心技术与客户需求,具有较高的方案弹性与效率;公司先后对光刻的细分领域龙头进行投资,其中包括在 2000年收购 Silicon Valley Group,扩展了在美国的研发团队与生产基地;在 2007年收购了美国的 Brion,强化了专业光刻检测与解决方案能力;在 2013年完成对紫外光源龙头 Cymer的收购,以及在 2016年取得光学镜片龙头德国蔡司 24.9%的股份,后两起对技术供应商的投资,加大了公司在极紫外光领域的领先优势。

ASML供应商中,以半导体及设备厂商为主,其中信邦电子、公准精密、光罩与高通业绩关联性最强,ASML的前17大供应商中,ASML对于供应商收入的占比均未达到10%以上,上游供应商的客户相对分散。ASML前3大客户收入占比超过了50%,对ASML营收影响显著。

2012年ASML还允许大客户对ASML进行少数股权投资,并承诺为ASML未来计划的研发支出作出承诺。英特尔、台积电、三星总计以38亿欧元的代价取得23%的股份,并另外出资13.8亿欧元支持ASML未来五年的EUV技术研发,助其快速实现量产,以及获得EUV设备的优先购买权。ASML真是聪明到了极点,一举多得,极具经营智慧和策略,像这样的企业不赚钱都难。

预计ASML2018年面向全球的产量仅为12台,也就是1个月只能有1台出售给半导体厂商。

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